GIỚI THIỆU THIẾT BỊ
Lĩnh vực công nghiệp chủ yếu
Lĩnh vực công nghiệp chủ yếu
Tương lai của LINESYSTEM là tương lai của thế giới.
Pin NIR sử dụng pin mặt trời
LSD-NIR SERIES
Đặc điểm
• Hiệu suất sấy cao nhất nhờ sử dụng máy sấy NIR hiệu suất cao
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
thông số kỹ thuật
LSD-45NIR | |
Điện trường
| 약 3.5m |
Nhiệt
độ cao nhất | 220℃ |
Nguồn
nhiệt | NIR Heater & FIN Heater |
Chiều rộng băng chuyền | 450mm |
Tốc
độ băng chuyền | 40 ~ 80mm/sec |
Điều
chỉnh nhiệt
độ | PID Control by SCR |
Kích cỡ
máy’(W × D × H) | 3510 × 890 × 1769mm |
* Nhằm nâng cao tính năng của máy, thông số kỹ thuật của trang web này có thể được thay đổi mà không được báo trước.
Pin NIR sử dụng pin mặt trời
LSD-NIR SERIES
Đặc điểm
• Hiệu suất sấy cao nhất nhờ sử dụng máy sấy NIR hiệu suất cao
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
thông số kỹ thuật
LSD-45NIR | |
Điện trường
| 약 3.5m |
Nhiệt
độ cao nhất | 220℃ |
Nguồn
nhiệt | NIR Heater & FIN Heater |
Chiều rộng băng chuyền | 450mm |
Tốc
độ băng chuyền | 40 ~ 80mm/sec |
Điều
chỉnh nhiệt
độ | PID Control by SCR |
Kích cỡ
máy’(W × D × H) | 3510 × 890 × 1769mm |
* Nhằm nâng cao tính năng của máy, thông số kỹ thuật của trang web này có thể được thay đổi mà không được báo trước.
Pin NIR sử dụng pin mặt trời
LSD-NIR SERIES
Đặc điểm
• Hiệu suất sấy cao nhất nhờ sử dụng máy sấy NIR hiệu suất cao
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
thông số kỹ thuật
LSD-45NIR | |
Điện trường
| 약 3.5m |
Nhiệt
độ cao nhất | 220℃ |
Nguồn
nhiệt | NIR Heater & FIN Heater |
Chiều rộng băng chuyền | 450mm |
Tốc
độ băng chuyền | 40 ~ 80mm/sec |
Điều
chỉnh nhiệt
độ | PID Control by SCR |
Kích cỡ
máy’(W × D × H) | 3510 × 890 × 1769mm |
* Nhằm nâng cao tính năng của máy, thông số kỹ thuật của trang web này có thể được thay đổi mà không được báo trước.
Pin NIR sử dụng pin mặt trời
LSD-NIR SERIES
Đặc điểm
• Hiệu suất sấy cao nhất nhờ sử dụng máy sấy NIR hiệu suất cao
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
thông số kỹ thuật
LSD-45NIR | |
Điện trường
| 약 3.5m |
Nhiệt
độ cao nhất | 220℃ |
Nguồn
nhiệt | NIR Heater & FIN Heater |
Chiều rộng băng chuyền | 450mm |
Tốc
độ băng chuyền | 40 ~ 80mm/sec |
Điều
chỉnh nhiệt
độ | PID Control by SCR |
Kích cỡ
máy’(W × D × H) | 3510 × 890 × 1769mm |
* Nhằm nâng cao tính năng của máy, thông số kỹ thuật của trang web này có thể được thay đổi mà không được báo trước.
Pin NIR sử dụng pin mặt trời
LSD-NIR SERIES
Đặc điểm
• Hiệu suất sấy cao nhất nhờ sử dụng máy sấy NIR hiệu suất cao
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
• Cấu tạo tuần hoàn nhiệt nhằm phân bố nhiệt độ đồng đều
• Cấu tạo đoạn nhiệt nên rất kín và hầu như không tỏa nhiệt
• Thiết kế mạch điện bảo vệ an toàn kép
• Thiết bị báo quá nhiệt
• Sấy 2 nhiệt wafer silicon
thông số kỹ thuật
LSD-45NIR | |
Điện trường
| 약 3.5m |
Nhiệt
độ cao nhất | 220℃ |
Nguồn
nhiệt | NIR Heater & FIN Heater |
Chiều rộng băng chuyền | 450mm |
Tốc
độ băng chuyền | 40 ~ 80mm/sec |
Điều
chỉnh nhiệt
độ | PID Control by SCR |
Kích cỡ
máy’(W × D × H) | 3510 × 890 × 1769mm |
* Nhằm nâng cao tính năng của máy, thông số kỹ thuật của trang web này có thể được thay đổi mà không được báo trước.
가나다아아ㅏㅇ